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金屬標(biāo)牌蝕刻工藝要求

好的,金屬標(biāo)牌蝕刻是一項(xiàng)精細(xì)且成熟的工藝,其核心要求可以概括為“設(shè)計(jì)清晰、材料匹配、過程受控、后處理到位”。下面我將從工藝類型、核心要求、關(guān)鍵控制點(diǎn)和注意事項(xiàng)等方面,為您系統(tǒng)梳理。

一、 主要蝕刻工藝類型

1. 化學(xué)蝕刻(濕法蝕刻)
原理:利用化學(xué)藥液(如三氯化鐵、硝酸等)與裸露金屬發(fā)生反應(yīng),溶解掉未被保護(hù)的部分,形成凹陷的圖文。
特點(diǎn):適用材料廣(不銹鋼、銅、鋁、黃銅等),可進(jìn)行復(fù)雜圖形和批量生產(chǎn),深度可控,是最常用的標(biāo)牌蝕刻方法。

2. 電解蝕刻(電化學(xué)蝕刻)
原理:在電解質(zhì)溶液中,以標(biāo)牌為陽極,通過電流選擇性地溶解金屬。
特點(diǎn):蝕刻速度快,側(cè)蝕小(線條更陡直),環(huán)保性相對較好(無強(qiáng)酸霧),但對設(shè)備和導(dǎo)電性要求高。

3. 激光蝕刻(嚴(yán)格講是激光打標(biāo))
原理:高能量激光使金屬表面局部熔融、氣化或發(fā)生顏色變化,形成標(biāo)記。
特點(diǎn):無需掩模,數(shù)字化操作靈活,適合個(gè)性化、小批量及二維碼等復(fù)雜信息。但通常為表面著色或淺層雕刻,深度感不如化學(xué)/電解蝕刻。

對于傳統(tǒng)金屬標(biāo)牌,化學(xué)蝕刻應(yīng)用最為普遍。以下要求主要圍繞化學(xué)蝕刻展開。

二、 蝕刻工藝全流程核心要求

階段一:前期設(shè)計(jì)與準(zhǔn)備
1. 文件設(shè)計(jì)
格式:提供矢量文件(如AI、CDR、DXF),確保線條清晰、閉合,無雜點(diǎn)。
線寬與間距:蝕刻線條/文字的寬度和間距不能過小。通常線寬不小于0.15mm,間距不小于線寬,否則易造成斷線或粘連。深蝕刻時(shí)需更寬。
倒角處理:設(shè)計(jì)尖銳內(nèi)角時(shí),建議做微小圓角(R角),以防蝕刻時(shí)應(yīng)力集中導(dǎo)致角部過蝕或保護(hù)膜破損。

2. 材料選擇與預(yù)處理
材料:常用304不銹鋼(耐蝕性好)、黃銅(典雅)、鋁板(輕便)、紫銅等。要求材料表面平整、無劃傷、無氧化皮、無油污。
預(yù)處理:必須進(jìn)行嚴(yán)格的脫脂、清潔和干燥。任何油漬、指紋都會導(dǎo)致保護(hù)層附著不牢,產(chǎn)生蝕刻缺陷。

階段二:圖形轉(zhuǎn)移(制掩模)
這是決定蝕刻精度的關(guān)鍵。
1. 光敏抗蝕法(高精度常用):
在清潔的金屬板上涂布或貼覆光致抗蝕膜(干膜或濕膜)。
通過紫外光曝光,將膠片或玻璃底片上的圖形轉(zhuǎn)移到抗蝕膜上。
顯影:將未曝光(或已曝光,取決于正負(fù)性)的部分溶解掉,使需要蝕刻的金屬部分裸露出來。
要求:曝光能量、顯影時(shí)間需精確控制,確保圖形邊緣銳利,抗蝕層與金屬結(jié)合牢固。

2. 絲網(wǎng)印刷法:
使用耐蝕油墨,通過絲網(wǎng)將圖形直接印刷在金屬板上。
要求:油墨附著力強(qiáng),厚度均勻,適用于線條較粗、精度要求不極高的標(biāo)牌。

階段三:蝕刻過程
1. 蝕刻藥液:
不銹鋼:常用三氯化鐵(FeCl?)溶液,濃度通常在28-42°Bé之間。溫度控制(一般30-50℃)和溶液濃度、新舊程度是關(guān)鍵。
銅及其合金:可使用三氯化鐵,或氯化銅、酸性硫酸銅等溶液。
鋁:使用堿性或酸性蝕刻液,需特別注意控制反應(yīng)速度和表面粗糙度。

2. 蝕刻方式:
浸泡蝕刻:簡單,但均勻性稍差,可能有側(cè)蝕(Under-cut)。
噴淋蝕刻:通過噴嘴將藥液噴灑在板面,均勻性好、效率高、側(cè)蝕小,是高品質(zhì)標(biāo)牌的首選。

3. 深度與時(shí)間控制:
蝕刻深度 = 蝕刻速率 × 時(shí)間。需通過測試確定特定材料、藥液條件下的速率。
標(biāo)牌常見蝕刻深度:淺蝕刻(0.03-0.1mm,用于填漆)、中蝕刻(0.1-0.3mm,有明顯觸感)、深蝕刻(>0.3mm,立體感強(qiáng))。
要求:監(jiān)控藥液濃度、溫度、噴淋壓力,確保批次一致性。

階段四:后處理
1. 去膜:蝕刻完成后,使用氫氧化鈉溶液或其他脫膜劑去除保護(hù)層。
2. 清洗與中和:徹底沖洗,必要時(shí)用酸或堿中和殘留藥液,防止日后泛黃或腐蝕。
3. 表面處理(可選但重要):
拋光/拉絲:對未蝕刻的背景區(qū)域進(jìn)行再處理,提升對比度和質(zhì)感。
電鍍/氧化:如鍍金、鍍鉻、鍍黑鎳,或鋁的陽極氧化。
填漆:在凹槽內(nèi)填入琺瑯漆、丙烯酸漆等,增加色彩和對比度。填漆后需烘干并擦除溢出部分。
4. 保護(hù):最后可噴涂透明清漆或進(jìn)行鈍化處理,防止氧化和指紋。

三、 關(guān)鍵質(zhì)量控制點(diǎn)與常見問題

四、 工藝選擇與總結(jié)建議

給您的最終建議:
1. 明確需求:首先確定標(biāo)牌的用途、材質(zhì)、預(yù)算、數(shù)量、視覺要求(是否要凹凸感/填漆)。
2. 規(guī)范文件:與制作方溝通后,提供符合工藝要求的標(biāo)準(zhǔn)矢量設(shè)計(jì)稿。
3. 選擇可靠供應(yīng)商:考察其工藝能力(尤其是前處理和蝕刻均勻性控制)、樣品質(zhì)量及后處理水平。
4. 要求打樣:在大批量生產(chǎn)前,務(wù)必進(jìn)行實(shí)物打樣,確認(rèn)深度、色澤、質(zhì)感等所有細(xì)節(jié)。

遵循以上工藝要求,就能生產(chǎn)出精美、耐用、符合設(shè)計(jì)預(yù)期的高質(zhì)量金屬蝕刻標(biāo)牌。

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